2,98 M
autorisations d'urbanisme
Infos clés
Activité - Code NAF
NAF 68.20B - Location de terrains et d'autres biens immobiliers
Siège
Permis de construire et DP
2
SCI RINALDI & CO est associé à 2 autorisations d'urbanisme en 2022 : 2 permis de construire et DP. Les dossiers concernent 1 commune, principalement Bonnevaux.
SCI RINALDI & CO est enregistré sous la forme juridique Société civile immobilière, avec un siège déclaré 25560 à Bonnevaux.
Données issues du répertoire SIRENE de l’INSEE
SCI RINALDI & CO compte 2 autorisations recensées sur la période 05/05/2022 - 14/11/2022, dans 1 commune. Le type dominant est permis de construire et DP.
Retrouvez ci-dessous, pour SCI RINALDI & CO, permis de construire et DP. Les dossiers sont classés du plus récent au plus ancien et peuvent être recherchés par adresse, année ou numéro d’autorisation.
Autorisations recensées
Période couverte
Type dominant
Territoires couverts
2 autorisations sur la période 05/05/2022 - 14/11/2022, réparties dans 1 commune, principalement à Bonnevaux.
Cette section réunit les permis de construire et les déclarations préalables associés à SCI RINALDI & CO dans le dataset PC de Sitadel.
Les 2 dernières autorisations, du plus récent au plus ancien.
2 autorisations affichées pour 2022.
| Adresse | Type | Parcelle(s) |
Surf. terrain |
Surf. constr. |
Date |
|---|---|---|---|---|---|
| Champ Chatelain Et A L Usine, Bonnevaux (25560) | PC Locaux | ZA109 | 3 499 m² | 253 m² | 2022/11/14 |
| Champs Chatelain Et A L Usine, Bonnevaux (25560) | PC Locaux | ZA109 | 3 499 m² | 253 m² | 2022/05/05 |
1 commune - 1 département - 1 région
Ces profils partagent le même secteur d’activité, le même département de siège ou les deux. Ils sont proposés comme points de comparaison, sans établir de lien juridique entre les organisations.
Les autorisations proviennent de la base nationale Sitadel. L’identité légale et le siège sont enrichis avec le répertoire SIRENE de l’INSEE. Une autorisation décrit une décision administrative et ne garantit pas la réalisation du projet.
