2,98 M
autorisations d'urbanisme
Infos clés
Activité - Code NAF
NAF 68.20B - Location de terrains et d'autres biens immobiliers
Siège
Permis de construire et DP
1
SCI FRANCONVILLE 270 GENERAL LECLERC est associé à 1 autorisation d'urbanisme en 2017 : 1 permis de construire et DP. Les dossiers concernent 1 commune, principalement Franconville.
SCI FRANCONVILLE 270 GENERAL LECLERC est enregistré sous la forme juridique Société civile immobilière, avec un siège déclaré 92130 à Issy-les-Moulineaux.
Données issues du répertoire SIRENE de l’INSEE
SCI FRANCONVILLE 270 GENERAL LECLERC compte 1 autorisation recensée sur la période 24/01/2017 - 24/01/2017, dans 1 commune. Le type dominant est permis de construire et DP.
Retrouvez ci-dessous, pour SCI FRANCONVILLE 270 GENERAL LECLERC, permis de construire et DP. Les dossiers sont classés du plus récent au plus ancien et peuvent être recherchés par adresse, année ou numéro d’autorisation.
Autorisations recensées
Période couverte
Type dominant
Territoires couverts
1 autorisation sur la période 24/01/2017, répartie dans 1 commune, principalement à Franconville.
Cette section réunit les permis de construire et les déclarations préalables associés à SCI FRANCONVILLE 270 GENERAL LECLERC dans le dataset PC de Sitadel.
Les 1 dernières autorisations, du plus récent au plus ancien.
1 autorisation affichée pour 2017.
| Adresse | Type | Parcelle(s) |
Surf. terrain |
Surf. constr. |
Date |
|---|---|---|---|---|---|
| 272 Rue Du General Leclerc, Franconville (95130) | PC Logement | AL68, AL69 | 4 210 m² | 8 052 m² | 2017/01/24 |
1 commune - 1 département - 1 région
Ces profils partagent le même secteur d’activité, le même département de siège ou les deux. Ils sont proposés comme points de comparaison, sans établir de lien juridique entre les organisations.
Les autorisations proviennent de la base nationale Sitadel. L’identité légale et le siège sont enrichis avec le répertoire SIRENE de l’INSEE. Une autorisation décrit une décision administrative et ne garantit pas la réalisation du projet.
