2,98 M
autorisations d'urbanisme
Infos clés
Secteur
Activité - Code NAF
Siège
Permis de construire et DP
2
ETABLISSEMENT TISNE est associé à 2 autorisations d'urbanisme en 2013 : 2 permis de construire et DP. Les dossiers concernent 2 communes, principalement Gabarret.
ETABLISSEMENT TISNE est enregistré sous la forme juridique Société à responsabilité limitée (sans autre indication), avec un siège déclaré 40190 à Villeneuve-de-Marsan.
Données issues du répertoire SIRENE de l’INSEE
ETABLISSEMENT TISNE compte 2 autorisations recensées sur la période 15/02/2013 - 25/04/2013, dans 2 communes. Le type dominant est permis de construire et DP.
Retrouvez ci-dessous, pour ETABLISSEMENT TISNE, permis de construire et DP. Les dossiers sont classés du plus récent au plus ancien et peuvent être recherchés par adresse, année ou numéro d’autorisation.
Autorisations recensées
Période couverte
Type dominant
Territoires couverts
2 autorisations sur la période 15/02/2013 - 25/04/2013, réparties dans 2 communes, principalement à Gabarret.
Cette section réunit les permis de construire et les déclarations préalables associés à ETABLISSEMENT TISNE dans le dataset PC de Sitadel.
Les 2 dernières autorisations, du plus récent au plus ancien.
2 autorisations affichées pour 2013.
| Adresse | Type | Parcelle(s) |
Surf. terrain |
Surf. constr. |
Date |
|---|---|---|---|---|---|
| Av Des Pyrenees, Villeneuve-de-Marsan (40190) | PC Locaux | N628, N629 | 5 435 m² | 18 m² | 2013/04/25 |
| 5 Lot De Lamarraque - Z.a., Gabarret (40310) | PC Locaux | C2031 | 1 168 m² | 113 m² | 2013/02/15 |
2 communes - 1 département - 1 région
Ces profils partagent le même secteur d’activité, le même département de siège ou les deux. Ils sont proposés comme points de comparaison, sans établir de lien juridique entre les organisations.
Les autorisations proviennent de la base nationale Sitadel. L’identité légale et le siège sont enrichis avec le répertoire SIRENE de l’INSEE. Une autorisation décrit une décision administrative et ne garantit pas la réalisation du projet.
