2,98 M
autorisations d'urbanisme
Infos clés
Secteur
Activité - Code NAF
Siège
Permis de construire et DP
1
SCCV NOYAL CHATILLON SUR SEICHE est associé à 1 autorisation d'urbanisme en 2018 : 1 permis de construire et DP. Les dossiers concernent 1 commune, principalement Noyal-Châtillon-sur-Seiche.
SCCV NOYAL CHATILLON SUR SEICHE est enregistré sous la forme juridique Société civile immobilière de construction-vente, avec un siège déclaré 44800 à Saint-Herblain.
Données issues du répertoire SIRENE de l’INSEE
SCCV NOYAL CHATILLON SUR SEICHE compte 1 autorisation recensée sur la période 12/09/2018 - 12/09/2018, dans 1 commune. Le type dominant est permis de construire et DP.
Retrouvez ci-dessous, pour SCCV NOYAL CHATILLON SUR SEICHE, permis de construire et DP. Les dossiers sont classés du plus récent au plus ancien et peuvent être recherchés par adresse, année ou numéro d’autorisation.
Autorisations recensées
Période couverte
Type dominant
Territoires couverts
1 autorisation sur la période 12/09/2018, répartie dans 1 commune, principalement à Noyal-Châtillon-sur-Seiche.
Cette section réunit les permis de construire et les déclarations préalables associés à SCCV NOYAL CHATILLON SUR SEICHE dans le dataset PC de Sitadel.
Les 1 dernières autorisations, du plus récent au plus ancien.
1 autorisation affichée pour 2018.
| Adresse | Type | Parcelle(s) |
Surf. terrain |
Surf. constr. |
Date |
|---|---|---|---|---|---|
| App N Rue Nicolas Appert Zac Du Centre-Secteur Appert, Noyal-Châtillon-sur-Seiche (35230) | PC Logement | AL145, AO606 | — | 6 480 m² | 2018/09/12 |
1 commune - 1 département - 1 région
Ces profils partagent le même secteur d’activité, le même département de siège ou les deux. Ils sont proposés comme points de comparaison, sans établir de lien juridique entre les organisations.
Les autorisations proviennent de la base nationale Sitadel. L’identité légale et le siège sont enrichis avec le répertoire SIRENE de l’INSEE. Une autorisation décrit une décision administrative et ne garantit pas la réalisation du projet.
