2,98 M
autorisations d'urbanisme
Infos clés
Secteur
Activité - Code NAF
NAF 64.30Z - Fonds de placement et entités financières similaires
Siège
Permis de construire et DP
2
TEIXEIRA DEVELOPPEMENT est associé à 2 autorisations d'urbanisme en 2019 : 2 permis de construire et DP. Les dossiers concernent 1 commune, principalement La Chapelle-du-Noyer.
TEIXEIRA DEVELOPPEMENT est enregistré sous la forme juridique SAS, société par actions simplifiée, avec un siège déclaré 28200 à Châteaudun.
Données issues du répertoire SIRENE de l’INSEE
TEIXEIRA DEVELOPPEMENT compte 2 autorisations recensées sur la période 21/06/2019 - 21/06/2019, dans 1 commune. Le type dominant est permis de construire et DP.
Retrouvez ci-dessous, pour TEIXEIRA DEVELOPPEMENT, permis de construire et DP. Les dossiers sont classés du plus récent au plus ancien et peuvent être recherchés par adresse, année ou numéro d’autorisation.
Autorisations recensées
Période couverte
Type dominant
Territoires couverts
2 autorisations sur la période 21/06/2019, réparties dans 1 commune, principalement à La Chapelle-du-Noyer.
Cette section réunit les permis de construire et les déclarations préalables associés à TEIXEIRA DEVELOPPEMENT dans le dataset PC de Sitadel.
2 autorisations en 2019.
| Adresse | Type | Parcelle(s) |
Surf. terrain |
Surf. constr. |
Date |
|---|---|---|---|---|---|
| Les Vignes 4, La Chapelle-du-Noyer (28200) | PC Logement | AB171 | 704 m² | 128 m² | 2019/06/21 |
| Les Vignes 4, La Chapelle-du-Noyer (28200) | PC Logement | AB170 | 704 m² | 119 m² | 2019/06/21 |
1 à 2 sur 2 autorisations
1 commune - 1 département - 1 région
Ces profils partagent le même secteur d’activité, le même département de siège ou les deux. Ils sont proposés comme points de comparaison, sans établir de lien juridique entre les organisations.
Les autorisations proviennent de la base nationale Sitadel. L’identité légale et le siège sont enrichis avec le répertoire SIRENE de l’INSEE. Une autorisation décrit une décision administrative et ne garantit pas la réalisation du projet.
