2,98 M
autorisations d'urbanisme
Infos clés
Secteur
Activité - Code NAF
Siège
Permis de construire et DP
5
MAISONS FUTEES est associé à 5 autorisations d'urbanisme entre 2020 et 2026 : 5 permis de construire et DP. Les dossiers concernent 5 communes, principalement Basse-Ham.
MAISONS FUTEES est enregistré sous la forme juridique SAS, société par actions simplifiée, avec un siège déclaré 57140 à La Maxe.
Données issues du répertoire SIRENE de l’INSEE
MAISONS FUTEES compte 5 autorisations recensées sur la période 17/04/2020 - 26/02/2026, dans 5 communes. Le type dominant est permis de construire et DP.
Retrouvez ci-dessous, pour MAISONS FUTEES, permis de construire et DP. Les dossiers sont classés du plus récent au plus ancien et peuvent être recherchés par adresse, année ou numéro d’autorisation.
Autorisations recensées
Période couverte
Type dominant
Territoires couverts
5 autorisations sur la période 17/04/2020 - 26/02/2026, réparties dans 5 communes, principalement à Basse-Ham.
Cette section réunit les permis de construire et les déclarations préalables associés à MAISONS FUTEES dans le dataset PC de Sitadel.
2 autorisations en 2020.
| Adresse | Type | Parcelle(s) |
Surf. terrain |
Surf. constr. |
Date |
|---|---|---|---|---|---|
| Rue De La See, Bertrange (57310) | PC Logement | 11356 | — | 344 m² | 2020/07/09 |
| Adresse Non Renseignée, Basse-Ham (57970) | PC Logement | — | — | 1 162 m² | 2020/04/17 |
1 à 2 sur 2 autorisations
5 communes - 2 départements - 1 région
Basse-Ham
1 autorisation
Bertrange
1 autorisation
Richemont
1 autorisation
Sainte-Barbe
1 autorisation
Trieux
1 autorisation
Ces profils partagent le même secteur d’activité, le même département de siège ou les deux. Ils sont proposés comme points de comparaison, sans établir de lien juridique entre les organisations.
Les autorisations proviennent de la base nationale Sitadel. L’identité légale et le siège sont enrichis avec le répertoire SIRENE de l’INSEE. Une autorisation décrit une décision administrative et ne garantit pas la réalisation du projet.
